募集情報

どんな仕事か: 2025294／【千葉】次世代光半導体デバイス向けシリコンフォトニクス技術開発（光デバイス製造改革チーム）

■配属予定部署

次世代フォトニクス事業創造プロジェクトチーム　光デバイス製造改革チーム

■業務内容

次世代光半導体デバイスに用いるシリコンフォトニクスと周辺技術の開発。

・シリコンフォトニクスの設計・試作・特性評価（フォトディテクタ・偏波ダイバーシティを含むパッシブ要素光素子）。

・変調デバイス-シリコンフォトニクス間の電気・光学接続を含む実装技術開発。

（シリコンフォトニクス外部ファブとの交渉、試作テープアウト経験。）

・共同研究先・関係部署との連携。

■当課のミッション

次世代光半導体デバイスのプロセス開発

プロセス工程設計、評価解析、歩留まり向上、要素技術検討

■当ポジションで働くやりがい

新製品に関する技術をゼロから作り上げるため、やりがいや達成感は非常に大きい。課題や未知の事項も多く、積極的な姿勢を求める環境にあり、やりたいことにチャレンジできる。

基礎的な研究から製品化に近い開発まで、実際の試作品を触りながら取り組むことができる。

■将来的なキャリアパス（5~10年）

開発業務にて経験を積んだ上で、自分が開発した製品の事業化などに関わるキャリアパスがあります。配属課内での担当経験を経て、5～10年で課内のリーダとなることが期待されます。

【古河電工について】

●プライム市場上場、創業130年、売上一兆円規模を誇る同社は、日本の電気製品業界の御三家と呼ばれ、安定経営を実現しています。

●インフラから電子部品まで幅広く事業展開を行い、三重工場で製造している光ファイバーは世界トップクラスのシェアを誇ります。

●女性活躍推進マーク「えるぼし」取得、年間休日121日、全社平均残業22.5時間、平均勤続19年と長期的に働ける環境です！
求められるスキルは: 必須 ■必須経験・スキル

・光デバイス関連の設計経験と半導体作製プロセスの知識

・シリコンフォトニクスの設計・試作・特性評価経験（フォトディテクタ・偏波ダイバーシティを含むパッシブ要素光素子）

・変調デバイス-シリコンフォトニクス間の電気・光学接続を含む実装技術開発経験

・大学レベルの数学、物理、化学の知識

・コミュニケーションスキル（自分と意見の合わない人でも、意見を聞き出せ、場をうまくまとめられる）

・PC、ソフト使用出来るスキル（Webアクセス、Excel、Word、PowerPoint）

・プレゼンテーションスキル（DesignReview推進）

■歓迎経験・スキル

・TOEIC600点以上（スコアは目安、海外企業とのやり取りで使用します）

・シリコンフォトニクス（フォトディテクタ、光導波路）の設計、電気・光学接続を含む実装開発経験

・半導体デバイスシミュレータ (TCADツール)、光学解析ソフトウェア、CAD、プログラミング（VBAマクロ、python、C++など）、BIツール（Spotfireなど）などの使用経験
雇用形態は: 正社員
どこで働くか: 千葉県
給与はどのくらい貰えるか: 500～1000万円

会社概要

社名: 古河電気工業株式会社

事業内容・ 会社の特長: ■情報通信ソリューション

安全・安心の次世代インフラを支える光通信技術。

ファイバ・ケーブル、ファイテル製品、ブロードバンドソリューションの3つの事業から成り、情報通信インフラに関連する製品の製造・販売および情報通信ネットワークの設計・施工・サービス等を行っています。

■エネルギーインフラ

高度な技術開発力や施工能力、安定した品質で、社会インフラを支えております。

電力事業、産業電線・機器事業から成り、超高圧、高圧、中低圧のケーブルや機器等の製造・販売および敷設を行っています。

■自動車部品・電池

人と車と世界をつなぎ、より安全で快適なモビリティの未来を支えます。

ワイヤハーネス、ステアリング・ロール・コネクタ、鉛バッテリ状態検知センサ、周辺監視レーダ等の車載部品事業、および上場子会社古河電池（株）にて電池事業を行っています。

■電装エレクトロニクス材料

高性能な素材開発力を活かし、エレクトロニクス技術の発展に貢献しております。

導電材（含む巻線）事業、銅条・高機能材事業から成り、主に電線、自動車部品や電子機器材料用銅製品の製造・販売を行っています。

■機能製品

迅速な対応力と柔軟な提案力で、差別化製品を提供しております。

AT・機能樹脂、サーマル・電子部品、メモリーディスク、銅箔事業から成り、樹脂および非鉄金属を加工した各種機能製品の製造・販売を行っています。

取扱い紹介会社

株式会社マイナビ

厚生労働大臣許可番号：13-ユ-080554
紹介事業許可年：2007年

登録場所: 本社

〒1040061　東京都中央区銀座四丁目12番15号　歌舞伎座タワー　24F

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【千葉】次世代光半導体デバイス向けシリコンフォトニクス技術開発（光デバイス製造改革チーム）

設計・開発エンジニア（その他、電気・電子・半導体）