NEW 掲載期間26/06/11~26/06/24 求人No.MYN-10550716

【広島】製造プロセス装置エンジニア(CVD/PVD) ◎世界的半導体メモリメーカー/面接WEB1

生産技術・製造技術・エンジニアリング(電気・電子)

年収500万円~1549万円
募集情報
どんな仕事か
<Manufacturing Process Equipment Englneer,CVD/PVD>



■ 仕事内容(Responsibilities)

【プロセス・装置技術開発】

◆ プロセス条件の確立・改善

◆ プロセス能力向上、スループット改善、生産コスト削減

◆ 各種CVD/PVD装置のプロセスパラメータ設定

◆ 新規装置・材料の評価、導入、立ち上げ

◆ 新製品量産に向けたプロセス最適化・プロセスベースライン構築



【製造ライン改善業務】

◆ 歩留まり向上に向けた装置・プロセス・ウェーハレシピの最適化

◆ 装置・プロセス異常のトラブルシュート、根本原因解析(RCA)

◆ FMEA、8D、SPCなどの手法を用いた問題解決

◆ 欠陥(Defect)調査、長期的な改善活動(シフトエンジニアや他部門との協働)



【品質・リスク管理】

◆ 製品が設計・性能仕様を満たしているかの評価

◆ 新製品・新パーツ導入時のプロセス調整や改善提案

◆ 材料サプライヤーとの技術連携、品質・コスト・リスク管理



■ 詳細業務一覧

・プロセス条件および技術の確立・改善

・プロセス能力の向上と生産コスト削減

・プロセスマネジメントプロジェクトの企画・改訂

・各種半導体装置(CVD/PVD)のプロセスパラメータ設定

・新規装置・材料の評価、導入、計画

・異常解析と改善・歩留まり改善活動

・製造トラブルの原因調査(Failure Analysis)と再発防止策立案
求められるスキルは
必須 【必須条件】

◆ 学士号(工学、材料、化学、機械など)または同等の経験

◆ 半導体製造・装置またはプロセス領域に関する基礎知識

◆ 英語でのコミュニケーション意欲(読み書き/技術資料)



【歓迎条件 / Nice to Have】

◆ CVD/PVDプロセスや装置に関する知識・経験

◆ 歩留まり改善、SPC、Root Cause Analysis の実務経験

◆ FMEA、8D、DOE などの問題解決手法に精通

◆ デバイス・材料・薄膜工学の知識

◆ 製造業における設備立ち上げ/改善経験

◆ サプライヤーマネジメントの経験

雇用形態は
正社員
どこで働くか
広島県
給与はどのくらい貰えるか
500~1500万円
会社概要
社名
マイクロンメモリジャパン株式会社
事業内容・
会社の特長
◆ 半導体メモリ製品の研究開発・設計・製造

■ 同社は、DRAM・NAND型フラッシュメモリなど最先端半導体メモリ製品の開発・設計・生産を行う企業です。

■ 広島工場は、日本国内で唯一DRAMを製造する拠点として、研究開発から量産まで一体体制を構築しています。



◆ 扱う主要製品

・DRAM(Dynamic Random Access Memory)

PC・サーバ・スマートフォン・車載システム等の主要メモリとして使用され、同社の中核製品。

・NANDフラッシュメモリ

ストレージ用途に広く利用される不揮発性メモリ。※製造・開発拠点としてはDRAMが中心。

・その他メモリ製品

NORフラッシュメモリなどの製品群もグループとして提供。



◆ 最先端プロセス技術の開発拠点

■ 開発・量産が同一敷地内で行われることで、最新DRAMの多くが広島で開発され、最初に量産化されています。

■ 世界最先端クラスのプロセス技術(微細化、3Dスタック等)により、高速・低消費電力の高性能DRAMを継続的に開発しています。



◆ 製品の主な用途(産業分野)

・PC・サーバ・データセンター

・スマートフォン・タブレットなどのモバイル機器

・自動車(電気自動車・先進運転支援)

・AI関連システム(高性能計算領域を含む)

※いずれも大容量・高速処理が求められ、DRAM需要が拡大している領域



◆ マイクロングループの日本中核拠点

■ 同社は、Micron Technology, Inc.の日本法人であり、

・マイクロンメモリジャパン:開発・設計・生産

・マイクロンジャパン:販売・マーケティング

の役割を担っています。

■ 親会社マイクロンは世界の主要都市30以上に拠点、製造拠点13カ所を持つグ
取扱い紹介会社
株式会社マイナビ
厚生労働大臣許可番号:13-ユ-080554
紹介事業許可年:2007年
登録場所
本社
〒1040061 東京都中央区銀座四丁目12番15号 歌舞伎座タワー 24F
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