- どんな仕事か
-
■同社で扱う半導体洗浄装置のプロセス技術開発業務を担当いただきます。
・半導体洗浄装置におけるウェット洗浄プロセスや、ウェットエッチング技術の性能・機能向上のため、半導体基板上の微細パターンの制御や、エッチングプロセスを研究し、反応等のメカニズムを解明することにより、半導体洗浄装置の基礎技術開発を行う
・上記をベースに、先端半導体プロセスの課題を解決する新たな機構・材料・プロセス手法を提案し、洗浄装置へ実装する
・半導体洗浄装置の基礎技術開発において、プロセス研究開発テーマのプロジェクトリーダー業務を担当。4～6人程度のチームを率い、技術的な計画立案と実行をリーディングする。 - 求められるスキルは
-
必須 【必須条件】
・半導体/FPD工程のプロセス技術開発の経験をお持ちの方
・グループリーダー経験もしくはそれに準ずるご志向をお持ちの方
【歓迎条件】
・洗浄プロセス、ウェットエッチングプロセスの実務経験者
・有機化学・無機化学（有機材料、無機材料の取り扱い）の知識
・半導体工学（材料・基礎物性、デバイス、プロセス）およびそ
の製造プロセスの知識
・表面観察SEM/TEMの知識
・表面解析XPS/SIMS/EDS/EELS、他FTIR/XRD/GCMS等の知識 - 雇用形態は
- 正社員
- どこで働くか
- 京都府
- 給与はどのくらい貰えるか
- 647～885万円
掲載期間24/05/07～24/05/20
求人No.MYN-10276530
