- なぜ募集しているのか
- 半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で、主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。
こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。 - どんな仕事か
-
電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをお任せします。【業務内容】
電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
上流工程の研究開発、設計から事業化（製品化）に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして幅広く活躍いただきます。
海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。
【具体的な業務内容】
・次々世代描画装置のシステム・要素開発
次々世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通して装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成いただきます。
※他部署と協業しながら装置リリースに向けた企画業務となります。また次々世代装置に必要なキーパーツの要素開発を先行して行うための企画検討を行う業務も兼ねます。
・次世代描画装置におけるシステム・要素開発
技術ロードマップから直近必要な次世代描画装置のシステム設計仕様をまとめ、他部署に要求仕様を提案し、開発の進捗管理、開発に必要な設備提案、開発されたシステムが仕様を満たしているか評価・検討して他部署やプロジェクトそのものをまとめあげるプロジェクトリーダー／マネージャー業務となります。
次世代装置を顧客や学会発表でプレゼンし、次世代装置に対するVOCをキャッチし、社内にフィードバックして装置性能を早期に向上させるミッションも重要な業務となります。
※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。
【充実の研修・育成制度】
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。
【配属組織】
15名（電子光学設計担当、システム開発担当、プロセス管理担当など）
基本的にチームや他部門と協業しながら業務を行っていただきます。
※半導体業界未経験の社員も在籍しております。
- 求められるスキルは
-
必須 【必須】
・半導体製造装置のシステム開発経験をお持ちの方
※特に電子ビームやレーザ等による転写や検査装置開発の経験者歓迎
・TOEIC800点以上相当の英語スキルをお持ちの方
※海外のお客様とのやり取りが多く、国際学会にも参加するポジションであるため歓迎 ※活かせる経験については上記「応募資格」欄に併記しております - 雇用形態は
- 雇用形態：正社員
契約期間：無期
試用期間：有(6ヶ月) - どこで働くか
- 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
JR根岸線「新杉田」駅より徒歩10分
受動喫煙対策：屋内全面禁煙 - 勤務時間は
- 8時45分～17時30分 ※フレックスタイム制あり（コアタイム無し）
- 給与はどのくらい貰えるか
-
年収:420万～1500万程度
月給制：月額230000円～760000円
給与:経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇
賞与:年2回（7、12月）
昇給:年1回（4月） - 待遇・福利厚生は
- 厚生年金、健康保険、雇用保険、労災保険、介護保険、退職金制度、企業年金、財形制度、借上げ社宅（適用条件有）、目的型福祉制度、選択型福祉制度、共済会制度、保養所、健康診断、リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得、育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度、教育研修制度等
- 休日休暇は
- 週休２日制（土曜日、日曜日）、祝日、有給休暇（初年度入社1～19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日）、休日日数125日、夏期、年末年始、慶弔等
- どんな選考プロセスか
-
書類選考 ⇒ 1次面接 ⇒ SPI ⇒ 2次面接 ⇒ 内定
※状況により変更になる場合あり
NEW
掲載期間24/10/07～24/10/31
求人No.OEDKH-nuflare-022
