- なぜ募集しているのか
- 半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で
主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる高性能化に向け、詳細な光学設計検討が必要となります。
描画装置の心臓ともいえる光学設計者層を厚くする目的の人材募集です。 - どんな仕事か
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次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務をお任せいたします【業務内容】
次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務をお任せいたします。
マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討する業務となります。
広い視野で業務を行う必要があり、今までの経験を生かして、新規光学設計でのご活躍を期待しております。
【充実の研修・育成制度】
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。
【配属組織】
30名（電子光学設計担当、電子鏡筒開発担当など）
基本的にチームや他部門と協業しながら業務を行っていただきます。
※半導体業界未経験の社員も在籍しております。
【組織のミッション】
描画装置の技術ロードマップを作成すべく、中長期間を視野にどういったコンセプトの描画装置をリリースするか検討いたします。
発展が著しい半導体に関連する装置を扱っているため、自動運転やスマートフォンなどの技術革新に密接に関わっていることから、未だ世にない世界で初めての技術の根幹に携わることができるといったやりがいを感じることができます。
【職場の魅力】
電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。次世代装置としては、より高い描画精度が求められる為、高機能な光学設計を組み込むことが、次世代装置開発に求められる課題となります。その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。課題解決への道筋がつけられない際は、経験豊富なベテラン光学設計者からのアドバイスも得られ、自らの光学設計者としての成長が期待できる職場です。
- 求められるスキルは
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必須 【必須】
いずれか必須
・学生時代に力学、電磁気学、数学の知見を用いた研究経験や、業務経験をお持ちの方
・光学設計の経験をお持ちの方歓迎 ※活かせる経験については上記「応募資格」欄に併記しております - 雇用形態は
- 雇用形態：正社員
契約期間：無期
試用期間：有(6ヶ月) - どこで働くか
- 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
JR根岸線「新杉田」駅より徒歩10分
受動喫煙対策：屋内全面禁煙 - 勤務時間は
- 8時45分～17時30分 ※フレックスタイム制あり（コアタイム無し）
- 給与はどのくらい貰えるか
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年収:420万～1500万程度
月給制：月額230000円～760000円
給与:経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇
賞与:年2回（7、12月）
昇給:年1回（4月） - 待遇・福利厚生は
- 厚生年金、健康保険、雇用保険、労災保険、介護保険、退職金制度、企業年金、財形制度、借上げ社宅（適用条件有）、目的型福祉制度、選択型福祉制度、共済会制度、保養所、健康診断、リフレッシュ休暇：勤続10年、20年、30年に取得、育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度、教育研修制度等
- 休日休暇は
- 週休２日制（土曜日、日曜日）、祝日、有給休暇（初年度入社1～19日（入社月による）、最大24日、繰り越し含め最大48日）、休日日数125日、夏期、年末年始、慶弔等
- どんな選考プロセスか
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書類選考 ⇒ 1次面接 ⇒ SPI ⇒ 2次面接 ⇒ 内定
※状況により変更になる場合あり
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掲載期間24/10/07～24/10/31
求人No.OEDKH-nuflare-024
