- どんな仕事か
- 【業務内容】EUV(極端紫外線)に対応する検査装置のニッチ分野で世界シェアトップの当社において、回路パターンを描く原板「マスクブランクス」の検査装置と、ウエハに回路を焼き付ける際の設計図となる「フォトマスク」の検査装置、およびウェハ検査装置の機構設計開発をご担当頂きます。[変更の範囲]将来的に会社の定める業務へ変更となる場合あり【当社特徴】1)世界シェア製品複数保有/高い海外売上比率/高収益売上における海外比率は80%を超えており、半導体の製造工程で使う欠陥検査装置では、回路を形成する部材「マスク」向けのうち、最先端技術「EUV(極端紫外線)」を使うタイプでは世界市場を独占しております。2)ファブライト戦略/研究開発費の投資営業利益は35%前後(一般的な製造業は約5%)で、売上の10%を研究開発へ投資しています。光応用技術を軸に設計と開発に特化する経営スタイルで収益を拡大しています。3)世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる創業から一貫して、時代をリードする数々の検査/計測観察装置を生み出し、半導体や液晶テレビパネル、太陽電池などの新製品開発に貢献。世界に先駆けて開発した半導体マスクブランクス検査装置や液晶用大型マスク検査装置、走査型カラーレーザー顕微鏡は、現在では業界標準機として地位を確立し、信頼を得ており、独自の光応用技術を核にしています。
- 求められるスキルは
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必須 【必須】 ・機械系の専攻をされていた方 ・機械設計の実務経験をお持ちの方(商材不問)
- 雇用形態は
- 正社員
- どこで働くか
- 横浜市港北区新横浜
- 勤務時間は
- 8:30~17:15/※7時間45分
- 給与はどのくらい貰えるか
- 600万円~899万円
- 休日休暇は
- 日曜日/
- どんな選考プロセスか
- 書類選考⇒適性検査(SPI)⇒1次面接⇒最終面接⇒内定
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掲載期間24/11/28~24/12/11
求人No.CDS-564375