募集情報

どんな仕事か: GaN基板製造の下地工程（種結晶＝シードの作製）におけるフォトリソグラフィ工程を中心に、プロセス改善・生産技術の確立をご担当いただきます。

【具体的には】
■プロセス開発・条件最適化
・GaN（窒化ガリウム）基板の製造プロセスにおける、フォトリソグラフィー工程やドライエッチング工程の条件検討及び最適化を行い、高品質なGaN基板を安定的に生み出す業務です。サファイア基板へのMOCVDによる薄膜形成後、プラズマCVDによるマスク形成、フォトレジスト塗布、パターニング、現像、ドライエッチング、レジスト除去までの一連の工程を扱います。マスクの形状・幅・高さ・材質はその後のHVP結晶成長の品質に直結するため、条件検討・最適化がこの技術の核心です。
■評価データ、プロセスデータの解析、解析技術の開発
・自ら作成したサンプルを評価・解析し、結果を製造プロセスへ反映させます。
・専門的な知見を活かした高度な解析が、世界最高水準の製品の品質向上に直結する重要な役割です。
■化合物半導体のエピタキシャル成長技術の開発、国内外の社外委託先検討及び技術開発
・MOCVD等による薄膜形成の経験も活かせる環境です。
求められるスキルは: 必須 ※以下の全てを満たす方
■半導体・電子部品・化学・材料いずれかの業界における製造ないしは開発・生産技術の実務経験（目安3年以上）
■ 半導体材料のフォトリソグラフィ技術・成膜技術の専門知識
■下記のいずれかの実務経験（GaNに関する経験は尚可。最先端の知見は不問で、基礎的なプロセス技術があれば可）
・半導体材料（GaN、SiC、Si、サファイア、脆性材料等）のフォトリソグラフィプロセスの経験
・金属膜、酸化膜等の成膜技術（プラズマCVDやスパッタ等）
■理系のバックグラウンド（物理、化学、化学工学、材料科学、機械工学、電気・電子工学等）
雇用形態は: 正社員
どこで働くか: 茨城県
勤務時間は: 08:30 - 17:15（コアタイム：00:00 - 00:00）
給与はどのくらい貰えるか: 836万円～1289万円(経験能力考慮の上優遇)
昇給1回、賞与1回
待遇・福利厚生は: 【保険】
健康保険、雇用保険、労災保険、厚生年金
【諸手当】
通勤手当
【待遇・福利厚生】
通勤手当、住宅手当、寮、資格取得、社員持株、退職金制度
休日休暇は: 年間123日／（内訳）完全週休2日制（土日祝）、夏季休暇、年末年始、有給休暇、慶事休暇、産前産後休暇、育児休暇、介護休暇、特別休暇（忌引、結婚等）

会社概要

社名: 三菱ケミカル

事業内容・ 会社の特長: 【概要・特徴】
東証プライム上場の三菱ケミカルグループの中核を担う、国内最大の総合化学メーカー。2017年に三菱化学、三菱樹脂、三菱レイヨンの3社の統合により発足しました。石化、炭素、MMA（メタクリル酸メチル）といった「基礎素材」から、高機能ポリマーや高機能フィルム、高機能成形材料などの「機能商品」まで幅広く展開。自動車・航空機、IT・エレクトロニクス、メディカル・食品・バイオ、環境・エネルギー、パッケージングなど幅広い産業の基盤を支えています。

【強み】
さまざまな分野で高いシェアを持つ製品を有することが強み。世界シェア（2024年度同社推定）は、液晶ディスプレイ用偏光板向けのPVOHフィルム、包装材用途や床暖房パイプなどに展開している特殊ポリマー（EVOH）がそれぞれ35％、電子機器・産業向けポリエステルフィルムが20％、自動車エアバッグ用途関連向け熱可塑性エラストマーが50％超となっています。

取扱い紹介会社

株式会社クイック

厚生労働大臣許可番号：27-ユ-020100
紹介事業許可年：1997年8月

登録場所: 東京オフィス

〒107-0052 東京都港区赤坂2-11-7　ATT新館3階

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プロセス開発＜GaNのフォトリソグラフィ工程＞

生産技術・製造技術・エンジニアリング（電気・電子）